Influence of plasma process on the nitrogen configuration in graphene

© 2016 Elsevier B.V. We investigated nitrogen doping into graphene on copper substrates by plasma treatment and by plasma immersion ion implantation (PIII). Two nitrogen bonding configurations were discovered to be dominant for distinct plasma processes. Pyridinic-N (P1) was the preferential N-bondi...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Sumet Sakulsermsuk, Pisith Singjai, Chanokporn Chaiwong
التنسيق: دورية
منشور في: 2018
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84994558836&origin=inward
http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/55433
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Chiang Mai University