Investigation of the use of rotating linearly polarized light for characterizing SiO<inf>2</inf> thin-film on Si substrate
This research is based on the Fresnel's equations and the ellipsometric technique that investigate the sample of SiO2 thinfilm on Si substrate. The investigation is made by a probing beam which is in the form of a rotating linearly polarized light generated by the polarizing Mach-Zehnder interf...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | C. Pawong, R. Chitaree, C. Soankwan |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Mahidol University |
التنسيق: | Conference or Workshop Item |
منشور في: |
2018
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://repository.li.mahidol.ac.th/handle/123456789/12836 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Investigation of the use of rotating linearly polarized light for characterizing SiO <inf>2</inf> thin-film on Si substrate
بواسطة: C. Pawong, وآخرون
منشور في: (2018) -
Investigation of the use of rotating linearly polarized light for characterizing SiO<inf>2</inf>thin-film on Si substrate
بواسطة: C. Pawong, وآخرون
منشور في: (2018) -
Formation of thin DLC films on SiO<inf>2</inf>/Si substrate using FCVAD technique
بواسطة: D. Bootkul, وآخرون
منشور في: (2018) -
The rotating linearly polarized light from a polarizing Mach-Zehnder interferometer: Production and applications
بواسطة: Chutchai Pawong, وآخرون
منشور في: (2018) -
Formation of thin DLC films on SiO<inf>2</inf>/Si substrate using FCVAD technique
بواسطة: D. Bootkul, وآخرون
منشور في: (2018)