PENGEMBANGAN SISTEM HOT WIRE UNTUK PENUMBUHAN LAPISAN TIPIS SILIKON POLIKRISTAL DENGAN KONDUKTIVITAS TINGGI
<b>Abstract: </b><br> It has been grown polycrystalline silicon thin film on silicon wafer <111>, using Hot Wire Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (HW-PECVD). Silane gas (SiH<sub>4</sub>), 10% diluted in H<sub>2</sub> was used as a gas source....
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| التنسيق: | Theses |
| اللغة: | Indonesia |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://digilib.itb.ac.id/gdl/view/3044 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|