A deformable annular slit for generating elliptical Bessel beams
Photolithography is used to fabricate an annular slit on an elastomeric substrate. The shape of the aperture is altered through the application of unidirectional mechanical strain. With an unmodified annular slit, standard Bessel beams with circular intensity distributions are obtained over a propag...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , |
|---|---|
| التنسيق: | text |
| منشور في: |
Archīum Ateneo
2019
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://archium.ateneo.edu/physics-faculty-pubs/8 https://iopscience.iop.org/article/10.7567/1347-4065/ab159c/meta |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|