Variable angle spectroellipsometry of silicon based multilayers

In this project, LPCVD silicon nitride (SiNx), LPCVD polycrystalline silicon (poly-Si) films, wafer bonded (WB) silicon-on-insulator (SOI) substrate and separation-by-implantation-of-oxygen (SIMOX) silicon-on-insulator (SOI) substrates were non-destructively characterized by a horizontal variable an...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Loh, Soon Yoong.
مؤلفون آخرون: Wong, T. S. K.
التنسيق: Theses and Dissertations
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/4797
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University