Molecular beam epitaxial growth of GaAs/AlGaAs heterostructure and nitrogen-containing alloy on patterned substrate

The low growth temperature of nitride-arsenide materials (GaNas and GaInNAs) using molecular beam epitaxy (MBE) has proven their potential for applications in optoelectronics integration using the epitaxy-on-electronics (EoE) technique.

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Loke, Wan Khai.
مؤلفون آخرون: Yoon, Soon Fatt
التنسيق: Theses and Dissertations
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/4799
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!