Characterization of flicker noise in sub-micron NMOS device

Nowadays MOS device sizes and signal levels are aggressively scaled down, the low-frequency noise (LFN) properties become increasingly important. This is because the signals are no longer significantly higher than the LFN, especially since the LFN level increases significantly as the device's s...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Myo Thant Win.
مؤلفون آخرون: Yeo, Kiat Seng
التنسيق: Theses and Dissertations
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/4919
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University