Characterization of flicker noise in sub-micron NMOS device
Nowadays MOS device sizes and signal levels are aggressively scaled down, the low-frequency noise (LFN) properties become increasingly important. This is because the signals are no longer significantly higher than the LFN, especially since the LFN level increases significantly as the device's s...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/4919 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |