Reaction micro- and nano-imprint lithography with polymers
The objectives of the proposed Project are as follows: a) Development of High Aspect Ratio Micro- and Nano-Imprint Lithography for patterning over large surface areas. b) Development of soft-on-hard mold technology as an enabling technology for low pressure molding of high aspect ratio polymeri...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Research Report |
| منشور في: |
2008
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/6969 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|