Thermal Characteristics of InP-Al2O3/Si Low Temperature Heterogeneous Direct Bonding for Photonic Device Integration

Thermal characteristics of InP-Al2O3/Si bonding for photonic integrated circuits application have been reported in this work. This paper firstly demonstrates low temperature heterogeneous direct bonding assisted by a thin layer of high-κ dielectric material (Al2O3). The InP samples with epitaxial gr...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Fan, J., Anantha, P., Liu, C. Y., Bergkvist, M., Wang, H., Tan, Chuan Seng
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2016
الموضوعات:
INP
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/83856
http://hdl.handle.net/10220/41485
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!