A voltage scalable 0.26 V, 64 kb 8T SRAM with Vmin lowering techniques and deep sleep mode
A voltage scalable 0.26 V, 64 kb 8T SRAM with 512 cells per bitline is implemented in a 130 nm CMOS process. Utilization of the reverse short channel effect in a SRAM cell design improves cell write margin and read performance without the aid of peripheral circuits. A marginal bitline leakage compen...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2010
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/90787 http://hdl.handle.net/10220/6309 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |