Determining the location of localized defect in the perpendicular junction configuration with the use of electron beam induced current
This paper describes a new method of determining the location of a localized defect in semiconductor materials using the perpendicular p–n junction configuration. The scanning electron microscope (SEM) operating in the charge-collection, or the electron beam induced current (EBIC) mode, is used f...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2009
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/90974 http://hdl.handle.net/10220/4650 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|