Chemical and dielectrical characteristics of ultrathin oxides grown by atomic force microscopy and scanning electron beam

10.1063/1.1901814

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Xie, X.N., Chung, H.J., Sow, C.H., Wee, A.T.S.
مؤلفون آخرون: PHYSICS
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/112582
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!