Effects of Cu:Al ratios and SiO2 substrates on PE-MOCVD copper aluminium oxide semiconductor thin films

Master's

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي:	CAI JIANLING
مؤلفون آخرون:	MATERIALS SCIENCE
التنسيق:	Theses and Dissertations
اللغة:	English
منشور في:	2010
الموضوعات:	PE-MOCVD, Cu-Al-O, CuAlO2, Cu2O, Thin Film, P-type
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/14088
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

كن أول من يترك تعليقا!

مواد مشابهة