XUV emission from autoionizing hole states induced by intense XUV-FEL at intensities up to 1017W/cm2

10.1088/1742-6596/244/4/042028

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Rosmej, FB, Galtier, E, Riley, D, Dzelzainis, T, Heinmann, P, Khattak, FY, Lee, RW, Nagler, B, Nelson, A, Tschentscher, T, Vinko, SM, Whitcher, T, Toleikis, S, F??ustlin, R, Soberierski, R, Juha, L, Fajardo, M, Wark, JS, Chalupsky, J, Hajkova, V, Krzywinski, J, Jurek, M, Kozlova, M
مؤلفون آخرون: CENTRE FOR ADVANCED 2D MATERIALS
التنسيق: مقال
منشور في: IOP Publishing 2019
الوصول للمادة أونلاين:https://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/155151
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore