Method for fabricating local metal interconnections with low contact resistance and gate electrodes with improved electrical conductivity
US6534393
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Patent |
| منشور في: |
2012
|
| الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/32631 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | National University of Singapore |