Highly selective and complete interconnect metal line and via/contact hole filling by electroless plating

US6660636

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書目詳細資料
Main Authors: LI, SAM FONG YAU, NG, HOU TEE
其他作者: CHEMISTRY
格式: Patent
出版: 2012
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/32659
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