Influences of sputtering gas pressure and gas flow rate on microwave characteristics of FeCoAlO thin films

10.1016/j.tsf.2011.03.077

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書目詳細資料
Main Authors: Xu, F., Xie, Q., Phuoc, N.N., Li, S., Ong, C.K.
其他作者: TEMASEK LABORATORIES
格式: Conference or Workshop Item
出版: 2014
主題:
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/53295
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機構: National University of Singapore