Enhancing CMOS transistor performance using lattice-mismatched materials in source/drain regions

Third International SiGe Technology and Device Meeting, ISTDM 2006 - Conference Digest

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Yeo, Y.-C.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: Conference or Workshop Item
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/70189
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!