Removing spherical silica particles from Si, Ge and NiP substrates by KrF excimer laser

• المؤلفون الرئيسيون: Zheng, Y.-W., Lu, Y.-F., Mai, Z.-H., Song, W.-D.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/81097

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers