Effects of CF4 plasma on the field emission properties of aligned multi-wall carbon nanotube films

10.1016/j.carbon.2004.09.029

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Zhu, Y.W., Cheong, F.C., Yu, T., Xu, X.J., Lim, C.T., Thong, J.T.L., Shen, Z.X., Ong, C.K., Liu, Y.J., Wee, A.T.S., Sow, C.H.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	مقال
منشور في:	2014
الموضوعات:	A. Carbon nanotubes B. Etching D. Field emission
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82222
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة