Low temperature metal-induced lateral crystallization of Si 1-xGex using silicide/germanide-forming-metals

10.1143/JJAP.49.04DH10

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書目詳細資料
Main Authors: Phung, T.H., Xie, R., Tripathy, S., Yu, M., Zhu, C.
其他作者: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
格式: Article
出版: 2014
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82630
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機構: National University of Singapore