Deposition of osmium and ruthenium thin films from organometallic cluster precursors

10.1002/aoc.1494

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書目詳細資料
Main Authors:	Li, C., Leong, W.K., Loh, K.P.
其他作者:	CHEMISTRY
格式:	Article
出版:	2014
主題:	Alloy Cluster CVD Osmium Ruthenium
在線閱讀:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/93531
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