Substrate influence on the formation of FeSi and FeSi2 films from cis-Fe(SiCl3)2(CO)4 by LPCVD

• المؤلفون الرئيسيون: Luo, L., Zybill, C.E., Ang, H.G., Lim, S.F., Chua, D.H.C., Lin, J., Wee, A.T.S., Tan, K.L.
• مؤلفون آخرون: PHYSICS
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: FeSi films; Film composition; Film formation; Low-pressure chemical vapor deposition
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/94964

Thin Solid Films