Structural and optical properties of a-Si:H/nc-Si:H thin films grown from Ar-H2-SiH4 mixture by plasma-enhanced chemical vapor deposition

10.1016/S0921-5107(03)00309-X

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Wang, Y.H., Lin, J., Huan, C.H.A.
مؤلفون آخرون: PHYSICS
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/98052
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!