Preparation of transparent conducting Zno:Al films on glass substrates by r.f magnetron sputtering
p. 40-45
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Nguyen, Duy Phuong, Ta, Dinh Canh, Nguyen, Ngoc Long, Nguyen, Hong Viet |
---|---|
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
H. : ĐHQGHN
2017
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://repository.vnu.edu.vn/handle/VNU_123/58438 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Crystallization by post-treatment of reactive r.f.-magnetron-sputtered carbon nitride films
بواسطة: Chen, G.L., وآخرون
منشور في: (2014) -
0.67Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.33PbTiO3 thin films derived from RF magnetron sputtering
بواسطة: Li, W.Z., وآخرون
منشور في: (2014) -
Process stabilization by peak current regulation in reactive high-power impulse magnetron sputtering of hafnium nitride
بواسطة: Shimizu, Tetsuhide, وآخرون
منشور في: (2016) -
Investigation of the thickness effect on material and surface texturing properties of sputtered ZnO:Al films for thin-film Si solar cell applications
بواسطة: Yan, Xia, وآخرون
منشور في: (2020) -
Antibacterial efficiency of magnetron sputtered TiO2 on poly(methyl methacrylate)
بواسطة: Nuñez, Julius Andrew P., وآخرون
منشور في: (2017)