Effect of thermal-induced stress on SOI power devices
Silicon-on-insulator (SOI) technology presents one way of fabricating semiconductor devices on an insulating substrate rather than in a semiconductor bulk. It is a promising potential technology for the next generation ULSI because of its many advantages over its bulk silicon substrate counterpart,...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2011
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/42905 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|