Effect of thermal-induced stress on SOI power devices

Silicon-on-insulator (SOI) technology presents one way of fabricating semiconductor devices on an insulating substrate rather than in a semiconductor bulk. It is a promising potential technology for the next generation ULSI because of its many advantages over its bulk silicon substrate counterpart,...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Huang, Guangyu
مؤلفون آخرون: Tan Cher Ming
التنسيق: Theses and Dissertations
اللغة:English
منشور في: 2011
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/42905
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!