Electrical properties and memory applications of Al-rich Al-based dielectric thin films
An AI-rich Al203 thin film was deposited on a p-type silicon substrate by rf sputtering to form AIIAI-rich AI20 3/p-Si diodes. The current-voltage (I-V) characteristics of the diodes were determined by carrier injection from either the Si substrate or the Al gate and by carrier transport along the t...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/54733 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |