Ni(Pt) alloy silicidation on (100) Si and poly-silicon lines

The roles of the Pt in Ni-(5 at.% Pt) alloy reaction on narrow c-Si (100) and polysilicon (poly-Si) lines by rapid thermal annealed (RTP) in the range of 400 to 900 °C were studied. By the addition of Pt as an alloying element, the phase stability of NiSi on Si(100) was enhanced and the retardation...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Pey, Kin Leong, Lee, Pooi See, Mangelinck, D.
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2013
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/97213
http://hdl.handle.net/10220/10478
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!