Rapid thermal oxidation of radio frequency sputtered polycrystalline silicon germanium films

• المؤلفون الرئيسيون: Choi, W.K., Natarajan, A., Bera, L.K., Wee, A.T.S., Liu, Y.J.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/113098
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1063/1.1431435