Method to form narrow and wide shallow trench isolations with different trench depths to eliminate isolation oxide dishing

US6207534

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: CHAN, LAP, CHA, CHER LIANG, LEE, TECK KOON
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: Patent
منشور في: 2012
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/32588
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore