Growth of indium gallium nitride (InGaN) on porous gallium nitride (GaN) template by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)

US20090001416A1

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: CHUA, SOO JIN, HARTONO, HARYONO, SOH, CHEW BENG
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: Patent
منشور في: 2012
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/34940
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore