Reverse nanoimprint lithography for fabrication of nanostructures

• المؤلفون الرئيسيون: Tavakkoli, A.K.G., Ranjbar, M., Piramanayagam, S.N., Wong, S.K., Poh, W.C., Sbiaa, R., Chong, T.C.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: Molding Pressure; Nanofabrication; Residual Layer; Reverse Nanoimprint Lithography
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/57272

10.1166/nnl.2012.1424