اكتمل التصدير — 

Determining interfacial properties of submicron low- k films on Si substrate by using wedge indentation technique

10.1063/1.2749473

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Yeap, K.B., Zeng, K., Jiang, H., Shen, L., Chi, D.
مؤلفون آخرون: MECHANICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/59889
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!