Via resistance reduction using "cool" PVD-Ta processing

• المؤلفون الرئيسيون: Seet, C.S., Zhang, B.C., Yong, C., Liew, S.L., Li, K., Hsia, L.C., Seng, H.L., Osiposwicz, T., Sudijono, J., Zeng, H.C., Tan, J.B.
• مؤلفون آخرون: CHEMICAL & ENVIRONMENTAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/66899

10.1149/1.1621417