Effect of rapid thermal annealing on the structural and electrical properties of a silicon-silicon oxide system

• المؤلفون الرئيسيون: Choi, W.K., Chan, Y.M., Ah, L.K., Loh, F.C., Tan, K.L., Ramam, A.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80368

10.1063/1.359844