Fast ICCD imaging of KrF excimer laser induced titanium plasma plumes for silicon metallization

Applied Surface Science

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書目詳細資料
Main Authors: Hong, M.H., Lu, Y.F., Ho, T.M., Lu, L.W., Low, T.S.
其他作者: ELECTRICAL ENGINEERING
格式: Article
出版: 2014
主題:
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80414
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機構: National University of Singapore