Numerical prediction of the etched profile in pyrolytic laser etching of silicon and gallium arsenide

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Wee, T.-S., Lu, Y.-F., Chim, W.-K.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/80845
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!