Excellent boron emitter passivation for high-efficiency Si wafer solar cells using AlOx/SiNx dielectric stacks deposited in an industrial inline plasma reactor

• المؤلفون الرئيسيون: Duttagupta, S., Lin, F., Shetty, K.D., Aberle, A.G., Hoex, B.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: boron emitter; crystalline silicon; industrial inline PECVD reactor; large-area high-efficiency Si wafer solar cells; PECVD aluminium oxide; surface passivation
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82310
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1002/pip.1259