Nanoscale arrays in lithium niobate fabricated by interference lithography and dry etching

10.1142/S0219581X10006867

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Si, G.Y., Danner, A.J., Teng, J.H., Ang, S.S., Chew, A.B., Dogheche, E.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الموضوعات:	interference lithography LiNbO3 dense arrays plasma etching
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/83998
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة