Study of Ge out-diffusion during nickel (Platinum - 0, 5, 10 at.%) germanosilicide formation

• المؤلفون الرئيسيون: Jin, L.J., Pey, K.L., Choi, W.K., Fitzgerald, E.A., Antoniadis, D.A., Pitera, A.J., Lee, M.L., Chi, D.Z.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/84248
• المؤسسة: National University of Singapore

Materials Research Society Symposium - Proceedings