Erratum: Strain relaxation due to V-pit formation in In xGa 1-xN/GaN epilayers grown on sapphire (Journal of Applied Physics (2005) 98 (084906))

10.1063/1.2168511

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Song, T.L., Chua, S.J., Fitzgerald, E.A.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق: Others
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/84403
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!