Oxygen-vacancy-related relaxation and scaling behaviors of Bi 0.9La0.1Fe0.98Mg0.02O3 ferroelectric thin films

10.1103/PhysRevB.82.024102

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書目詳細資料
Main Authors: Ke, Q., Lou, X., Wang, Y., Wang, J.
其他作者: MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
格式: Article
出版: 2014
在線閱讀:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/86622
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