Corrosive Behavior of Tungsten in Post Dry-Etch Residue Remover

• المؤلفون الرئيسيون: Chen, B.-H., Zhang, H., Chooi, S.Y.M., Chan, L., Xu, Y., Ye, J.H.
• مؤلفون آخرون: CHEMICAL ENGINEERING
• التنسيق: Conference or Workshop Item
• منشور في: 2014
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/91806
• المؤسسة: National University of Singapore

Industrial and Engineering Chemistry Research