Deposition of osmium and ruthenium thin films from organometallic cluster precursors

10.1002/aoc.1494

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Li, C., Leong, W.K., Loh, K.P.
مؤلفون آخرون: CHEMISTRY
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
CVD
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/93531
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!