Band engineering in the high-k dielectrics gate stacks

10.1016/j.mee.2007.04.050

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Wang, S.J., Dong, Y.F., Feng, Y.P., Huan, A.C.H.
مؤلفون آخرون: PHYSICS
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/95848
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore