In situ XPS and SIMS analysis of O 2 + beam-induced silicon oxidation

• المؤلفون الرئيسيون: Tan, S.K., Yeo, K.L., Wee, A.T.S.
• مؤلفون آخرون: PHYSICS
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: Ion beam oxidation; Secondary ion mass spectrometry; Surface transient; X-ray photoelectron spectroscopy
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/96897

10.1002/sia.1903