Tailoring of microstructure in hydrogenated nanocrystalline Si thin films by ICP-assisted RF magnetron sputtering
© 2015 IOP Publishing Ltd. Utilizing plasma-assisted deposition by combining an RF magnetron and an inductively coupled plasma (ICP) source it is possible to fabricate highly crystallized nc-Si:H films at a relatively low substrate temperature (300 °C). Microstructural analysis reveals enhancement i...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
|---|---|
| التنسيق: | دورية |
| منشور في: |
2018
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84947093700&origin=inward http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/44125 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|