Patterning of burnishing head using SU-8 hard mask fabricated by deep X-ray lithography
This paper studies on the application of X-ray irradiation from synchrotron light for burnishing head patterning. Feasibility study of SU-8 negative photoresist for AlTiC hard mask in reactive ion etching in CF4 plasma is investigated and compared with chromium and AZ photoresist. X-ray lithography...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , |
|---|---|
| التنسيق: | وقائع المؤتمر |
| منشور في: |
2018
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84866759299&origin=inward http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/51516 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|