Method for Reducing Defect in Electroplating Process
วารสารวิศวกรรมศาสตร์ มหาวิทยาลัยเชียงใหม่ (Engineering Journal Chiang Mai University) เป็นวารสารที่ตีพิมพ์บทความวิชาการในลักษณะบทความวิจัย และบทความปริทัศน์ที่มีคุณภาพสูง ทางด้านวิศวกรรมศาสตร์ วิทยาศาสตร์ และเทคโนโลยี รวมถึงสาขาอื่นที่เกี่ยวข้อง โดยมีเนื้อหาที่เป็นองค์ความรู้พื้นฐานจนกระทั่งการนำไปใ...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Pongsakorn Kantichaimongkol, Parames Chutima |
---|---|
اللغة: | English |
منشور في: |
คณะวิศวกรรมศาสตร์ มหาวิทยาลัยเชียงใหม่
2019
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://researchs.eng.cmu.ac.th/UserFiles/File/Journal/26_1/14.pdf http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/66408 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Pulse electroplating of copper film : a study of process and microstructure
بواسطة: Zhang, X., وآخرون
منشور في: (2012) -
Current distribution analysis of electroplating reactors and mathematical modeling of the electroplated zinc-nickel alloy
بواسطة: Manida Teeratananon, 1976-
منشور في: (2007) -
Current distribution analysis of electroplating reactors and mathematical modeling of the electroplated zinc-nickel alloy
بواسطة: Manida Teeratananon
منشور في: (2004) -
REDUCING DEFECTS PRODUCT AT M.E. BAG AND PURSE PRODUCTION PROCESS USING DMAIC METHOD
بواسطة: Imamara, Kharizsa -
Orthogonal fluxgate effect in electroplated wires
بواسطة: Ripka, P., وآخرون
منشور في: (2014)