Tính chất điện hóa của hệ oxi hóa khử Ni3+/ Ni2+ trên nền Graphit xốp trong môi trường kiềm
tr. 972-980
Saved in:
Main Author: | Trịnh, Xuân Sén |
---|---|
Other Authors: | Nguyễn, Thị Cẩm Hà |
Format: | Article |
Language: | other |
Published: |
Đại học quốc gia Hà Nội
2017
|
Subjects: | |
Online Access: | http://repository.vnu.edu.vn/handle/VNU_123/25022 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Institution: | Vietnam National University, Hanoi |
Language: | other |
Similar Items
-
Nghiên cứu ảnh hưởng của pH đến sự hình thành xúc tác hidrotanxit Mg-Ni-Al-CO3 dùng cho phản ứng oxi hóa chọn lọc stiren bằng hidroperoxit
by: Đặng, Văn Long, et al.
Published: (2018) -
Fully Silicided NiSi and Germanided NiGe Dual Gates on SiO 2 n- and p-MOSFETs
by: Yu, D.S., et al.
Published: (2014) -
New salicidation technology with Ni(Pt) alloy for MOSFETs
by: Lee, P.S., et al.
Published: (2014) -
The interfacial reaction of Ni with (111)Ge, (100)Si0.75Ge 0.25 and (100)Si at 400 °C
by: Jin, L.J., et al.
Published: (2014) -
Al 2O 3-Ge-On-Insulator n- and p-MOSFETs With Fully NiSi and NiGe Dual Gates
by: Yu, D.S., et al.
Published: (2014)