Tính chất điện hóa của hệ oxi hóa khử Ni3+/ Ni2+ trên nền Graphit xốp trong môi trường kiềm
tr. 972-980
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Trịnh, Xuân Sén |
---|---|
مؤلفون آخرون: | Nguyễn, Thị Cẩm Hà |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | other |
منشور في: |
Đại học quốc gia Hà Nội
2017
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://repository.vnu.edu.vn/handle/VNU_123/25022 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Vietnam National University, Hanoi |
اللغة: | other |
مواد مشابهة
-
Nghiên cứu ảnh hưởng của pH đến sự hình thành xúc tác hidrotanxit Mg-Ni-Al-CO3 dùng cho phản ứng oxi hóa chọn lọc stiren bằng hidroperoxit
بواسطة: Đặng, Văn Long, وآخرون
منشور في: (2018) -
Fully Silicided NiSi and Germanided NiGe Dual Gates on SiO 2 n- and p-MOSFETs
بواسطة: Yu, D.S., وآخرون
منشور في: (2014) -
New salicidation technology with Ni(Pt) alloy for MOSFETs
بواسطة: Lee, P.S., وآخرون
منشور في: (2014) -
The interfacial reaction of Ni with (111)Ge, (100)Si0.75Ge 0.25 and (100)Si at 400 °C
بواسطة: Jin, L.J., وآخرون
منشور في: (2014) -
Al 2O 3-Ge-On-Insulator n- and p-MOSFETs With Fully NiSi and NiGe Dual Gates
بواسطة: Yu, D.S., وآخرون
منشور في: (2014)